Objetivos para microscopía
Innovación y precisión para experimentos avanzados
En ASENSE, diseñamos y fabricamos objetivos de microscopio personalizados para distintas aplicaciones científicas como experimentos en entornos de alto vacío, microscopía multiespectral, escritura láser y dinámica cuántica, adaptándonos a las necesidades específicas de cada experimento.
Ofrecemos tanto unidades individuales como lotes de producción según la escala y requisitos de cada cliente.
Algunos de nuestros puntos diferenciales:
- Alta resolución y transmisión en un amplio rango espectral (desde el UV hasta el NIR y SWIR).
- Compatibilidad con entornos de alto vacío usando materiales de baja desgasificación.
- Materiales no magnéticos como ULTEM, para aplicaciones en física cuántica y manipulación de átomos.
- Larga distancia de trabajo y compensación para ventanas de celdas de vacío, facilitando la integración en experimentos de geometría compleja.
- Posibilidad de personalización en parámetros clave: apertura numérica (NA), focal (EFL), campo de visión (FOV), transmisión y calidad óptica.
Diseño miniaturizado (<20 mm diámetro, ≤50 mm longitud, ≤80 g peso)
Objetivo NUV telecéntrico para escritura láser
P/N 13717000
Parámetros y valores
Primary wavelength: 405nm
Secondary wavelength: 650 nm
Tertiary wavelength: 532nm
EFL: 3.6mm
NA: 0.5
Optical quality over FOV: 0.04λ @405nm
Telecentricity: 1mrad
Objetivos NIR no magnéticos
Objetivo NIR NA07
P/N 09717000
Parámetros y valores
NA: 0.7
FOV: Φ200µm
Wavelength: 780, 795 & 850nm
Working distance: 17.06mm
Cover plate: SiO2 6.35mm
Transmission: ≥ 93% @1550nm ≥ 95% @775nm
Optical quality over FOV: ≤ 0.07 λ @1550nm
≤ 0.1 – 0.15 λ @775nm
Objetivo NIR NA04
P/N 09817000
Parámetros y valores
NA: 0.4
FOV: Φ400µm
Wavelength: 780, 795 & 850nm
Working distance: 22.9mm
Cover plate: SiO2 6.35mm
Transmission: ≥ 93% @1550nm ≥ 80% @395nm
Optical quality over FOV: ≤ 0.2 λ @1550nm
≤ 0.25 λ @395nm
Objetivos para dinámica cuántica
Objetivo F32
P/N 10517000
Parámetros y valores
EFL: 32 mm
f/n: f/1.5
FOV: Φ2º
Wavelength: 480 & 780nm
Working distance: 70mm
Cover plate: SiO2 10mm
Axial color: <6µm
Optical quality over FOV: ≤ 0.1 λ @480nm >
Objetivo F43
P/N 10417000
Parámetros y valores
EFL: 43 mm
f/n: f/2.11
FOV: Φ2º
Wavelength: 780 & 1064nm
Working distance: 100mm
Cover plate: SiO2 6mm
Axial color: <6µm
Optical quality over FOV: ≤ 0.07 λ @780nm >
Objetivos para alto-vacío
Objetivo
P/N 15917000
Parámetros y valores
Spectral waveband: 1550nm & 775nm
NA: 0.85
FOV: Φ100µm
EFL: 1.85mm
Axial color: < 5µm >
Transmission: > 93% @1550nm > 95% @775nm
Image quality: < 0.07 λ @1550nm < 0.1 – 0.15 λ @775nm
WD: 1.5mm
Objetivo
P/N 15917000
Parámetros y valores
NA: 0.85
FOV: Φ100µm
EFL: 1.85mm
Axial color: < 5µm
Transmission: > 93% @1550nm > 95% @775nm
Image quality: < 0.07 λ @1550nm
< 0.1 – 0.15 λ @775nm
WD: 1.5mm >
Objetivo multiespectral VIS
NIR P/N 18617000
Parámetros y valores
NA: 0.55
FOV: Φ200µm
EFL: 22.5mm
Transmission: > 90% @1064 – 480nm
Optical quality over FOV: < 0.25 λ @1064nm & 850nm
< 1 λ @795nm & 780nm
Cover plate: SiO2 6mm
Working distance: 31mm >
Objetivo de alta transmisión con imagen inmersa en vidrio
P/N 15317000
Parámetros y valores
FOV: Φ200μm
EFL: 13mm
NA: 0.5
Wavelength: 1550nm & 1064nm
Optical quality over FOV: 0.1λ
Distortion: <0.01%
Cover plate: 6.35mm SiO2
Transmission: >98.5% @ 1550 & 1064 nm
Air to glass reflectivity: <0.1% >
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